Fotorezistní film pro mikrofázi je klíčovou součástí v oblasti pokročilých výrobních a zpracovatelských technologií. Slouží jako nezbytné médium při vývoji mikrostruktur a zařízení v různých odvětvích, včetně elektroniky, optiky a strojírenství. Základní úlohou fotorezistních vrstev spočívá v jejich schopnosti přenést složité vzory na podložky, což je proces